Mga Teknikal na Parameter
| Komposisyon | Nilalaman | Cas No. |
| Purong tubig | 85-90% | 7732-18-5 |
| Sodium benzoate | 0.1-0.2% | 532-32-1 |
| Surfactant | 4-5% | ∕ |
| Iba | 4-5% | ∕ |
Mga Tampok ng Produkto
1、Mataas na antas ng proteksyon sa kapaligiran: Maaaring makamit ang selective etching nang hindi gumagamit ng mga organic na base tulad ng TMAH.
2、Mababang gastos sa produksyon: Gamit ang NaOH/KOH bilang etching liquid, ang halaga ay mas mababa kaysa sa acid polishing at etching process.
3, Mataas na kahusayan sa pag-ukit: Kung ikukumpara sa proseso ng acid polishing at etching, ang kahusayan ng baterya ay tumaas ng higit sa 0.15%.
Mga Application ng Produkto
1、 Ang produktong ito ay karaniwang angkop para sa mga proseso ng baterya ng Perc at Topcon;
2、Angkop para sa mga solong kristal ng 210, 186, 166, at 158 na mga pagtutukoy.
Mga tagubilin para sa paggamit
1, Magdagdag ng naaangkop na dami ng alkali sa tangke (1.5-4% batay sa KOH/NAOH volume ratio)
2, Magdagdag ng naaangkop na halaga ng produktong ito sa tangke (1.0-2% batay sa volume ratio)
3、Painitin ang polishing tank liquid sa 60-65°C
4、Ilagay ang silicon wafer na tinanggal ang likod ng PSG sa tangke ng buli, ang oras ng reaksyon ay 180s-250s
5、 Inirerekomendang pagbaba ng timbang sa bawat panig: 0.24-0.30g (210 wafer source, iba pang pinagkukunan ay kino-convert sa pantay na sukat) single at polycrystalline PERC solar cells
Mga pag-iingat
1、Ang mga additives ay kailangang itago nang mahigpit na malayo sa liwanag.
2、Kapag ang linya ng produksyon ay hindi gumagawa, ang likido ay dapat na replenished at pinatuyo bawat 30 minuto.Kung walang produksyon ng higit sa 2 oras, inirerekumenda na alisan ng tubig at muling punuin ang likido.
3、Ang bagong line debugging ay nangangailangan ng DOE na disenyo batay sa bawat proseso ng production line para makamit ang proseso ng pagtutugma, at sa gayon ay mapakinabangan ang kahusayan.Ang inirerekomendang proseso ay maaaring i-refer sa pag-debug.
